特許

J-GLOBAL ID：200903037219060536

現像装置

発明者： 岡本 秀仁
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-320402
公開番号（公開出願番号）：特開2000-147788
出願日： 1998年11月11日
公開日（公表日）： 2000年05月26日
要約：

【要約】【課題】半導体装置の基板等の現像装置において、現像処理の際の現像廃液が基板の裏面に回り込むのを防ぎ、使用済の現像廃液をスムーズに排出させるようにする。【解決手段】現像処理される基板10を載置して回転させるターンテーブル20と、ターンテーブルに載置される基板10の下方に配置されたカップ基台30と、基板の下面10bの外周領域と所定間隔をおいて対向するようにカップ基台30の上面30aに配置された環状のカップナイフエッジ部材40とを備え、このカップナイフエッジ部材40の上面に、基板の回転に伴う気流を整流するように周方向に所定間隔をおいて配置された流線形状をなす複数のフィン40bを設けた。

請求項（抜粋）：

現像処理される基板を載置して回転させるターンテーブルと、前記ターンテーブルに載置される基板の下方に配置された基台と、前記基板の下面の外周領域と所定間隔をおいて対向するように前記基台の上面に配置された環状の遮断部材とを備えて、前記基板の上面に現像液を供給しかつ前記ターンテーブルを回転させて前記基板の現像処理を行なう現像装置であって、前記遮断部材は、前記基板の下面と対向する上面において、前記基板の回転に伴う気流を整流するように周方向に所定間隔をおいて配置された流線形状をなす複数のフィンを有する、ことを特徴とする現像装置。

IPC (2件)：

G03F 7/30 502 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/30 502 ,  H01L 21/30 569 C

Fターム (5件)：

2H096AA25 ,  2H096GA29 ,  2H096GA33 ,  5F046LA02 ,  5F046LA06