特許
J-GLOBAL ID:200903037221187810

レーザ装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大島 陽一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-113656
公開番号(公開出願番号):特開平7-301764
出願日: 1994年04月28日
公開日(公表日): 1995年11月14日
要約:
【要約】【目的】 半導体レーザを用いてレーザ加工を可能にする。【構成】 マルチストライプアレイ半導体レーザの各ストライプ光を分布屈折率レンズアレイで各々コリメートし、一部のストライプ光の偏光を1/2波長板で90度回転し、偏光ビームスプリッタにて残りのストライプ光と偏波合成し、さらに2つのプリズムを用いてストライプ光を分割し多段層に変換して、細長い光線束を得る。その光線束をビーム拡大器とフォーカシングレンズとを介して、1つのスポット状に絞り込むことにより、レーザ加工を行うことができる。
請求項(抜粋):
マルチストライプアレイ半導体レーザと、前記マルチストライプアレイ半導体レーザからの各ストライプ光の各々に対応して配設されかつストライプ数に対応した平行光線群にコリメートするレンズアレイと、該平行光線群を集光する集光レンズとを有するレーザ装置において、前記平行光線群のうちの約半数の光線に対して配設されかつ偏光を90度回転させる1/2波長板と、前記1/2波長板の透過光と前記平行光線群のうちの残りの光線からなる非透過光とを合成するべく配設された偏光ビームスプリッタとを有することを特徴とするレーザ装置。
IPC (4件):
G02B 27/28 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  G02B 27/00
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • レーザ装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-278191   出願人:新日本製鐵株式会社
  • 特開昭53-132361

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