特許
J-GLOBAL ID:200903037221694313

真空マイクロ波加熱乾燥装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 秋本 正実
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-003104
公開番号(公開出願番号):特開平5-196357
出願日: 1992年01月10日
公開日(公表日): 1993年08月06日
要約:
【要約】【目的】 減圧された状態で被乾燥物をマイクロ波照射によって乾燥するに際し、加熱むら、乾燥むらを生じさせることなく状態良好にして乾燥すること。【構成】 被乾燥物19が収容されている容器2内部が真空ポンプ10により減圧された状態で、その容器2中心部に設けられている、マグネトロン3を含むマイクロ波加熱部からはマイクロ波が被乾燥物19方向に万遍なく照射されるべく構成したものである。これにより被乾燥物19は万遍なく加熱され、したがって、乾燥むらを生じさせることなく乾燥され得るものである。
請求項(抜粋):
投入された被乾燥物を内部にドーナッツ状に収容する被乾燥物収容容器と、該被乾燥物収容容器の上部開口部を開閉自在に密閉する蓋と、上記被乾燥物収容容器を真空排気する真空ポンプと、上記被乾燥物収容容器の中心部に設けられ、該被乾燥物収容容器とは隔離された状態でマイクロ波を被乾燥物方向に照射するマイクロ波加熱部と、からなる真空マイクロ波加熱乾燥装置。
IPC (4件):
F26B 23/08 ,  B09B 3/00 303 ,  F26B 7/00 ,  F26B 9/06
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開平2-130365
  • 特公昭50-029184

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