特許
J-GLOBAL ID：200903037221916111
磁気ディスク用基板、該基板の製造方法、及び、磁気ディスク
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
笹島 富二雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-176020
公開番号（公開出願番号）：特開平9-035258
出願日： 1995年07月12日
公開日（公表日）： 1997年02月07日
要約：
【要約】【課題】 磁気ディスク用基板のテクスチャー処理により、磁気ヘッドとのとの吸着現象の防止、記録密度向上のための低浮上量化、段差によるヘッドクラッシュ防止を比較的低コストで可能にする。【解決手段】 表面研磨されたアモルファスカーボン基板1の表面のうち、磁気ディスク装置の起動及び停止時に磁気ヘッドとの接触が生じる領域を含む一部の領域に、パウダービーム加工により、すなわちノズル3により平均粒径 0.5〜6μmの微粒子を噴射して、テクスチャー処理を施し、その表面粗さを、中心線平均粗さRaで8〜30Å、最大高さRpで40〜 200Åとする。また、他の領域に、軽度の微粒子噴射によるテクスチャー処理を施し、その表面粗さを、中心線平均粗さRaで5〜15Å、最大高さRpで15〜90Åとする。
請求項（抜粋）：
表面研磨された磁気ディスク用基板の表面のうち、磁気ディスク装置の起動及び停止時に磁気ヘッドとの接触が生じる領域を含む一部の領域に、微粒子を噴射してテクスチャー処理を施し、テクスチャー処理後の前記一部の領域の表面粗さを、中心線平均粗さRaで8〜30Å、最大高さRpで40〜 200Åとしたことを特徴とする磁気ディスク用基板。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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