特許
J-GLOBAL ID：200903037226302731

ヒドロキシアルキルエステルの製造方法

発明者：
新谷 恭宏

新谷 恭宏 について

, 
出口 幸治

出口 幸治 について


出願人/特許権者：
株式会社日本触媒

株式会社日本触媒 について


代理人 (1件)： 松本 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-034266
公開番号（公開出願番号）：特開2002-234861
出願日： 2001年02月09日
公開日（公表日）： 2002年08月23日
要約：
【要約】【課題】 触媒の存在下でカルボン酸とアルキレンオキシドとを反応させてヒドロキシアルキルエステルを製造するプロセスにおいて、原料カルボン酸や、目的生成物であるヒドロキシアルキルエステルで製造設備内を共洗いしたり、水と共沸する溶剤を用いて共沸蒸留したりせずに、ヒドロキシアルキルエステルへの水の混入を最小限に抑えることができる方法の提供。【解決手段】 ヒドロキシアルキルエステルの製造を停止してから、これを再開するまでの間に、製造設備内を水および/または塩基性水溶液で洗浄する洗浄工程と、その後、前記製造設備内を減圧乾燥および/または熱風乾燥させる乾燥工程とを含む。
請求項（抜粋）：
触媒の存在下でカルボン酸とアルキレンオキシドとを反応させてヒドロキシアルキルエステルを製造する方法において、前記ヒドロキシアルキルエステルの製造を停止してから、これを再開するまでの間に、製造設備内を水および/または塩基性水溶液で洗浄する洗浄工程と、その後、前記製造設備内を減圧乾燥および/または熱風乾燥させる乾燥工程とを含むことを特徴とする、ヒドロキシアルキルエステルの製造方法。
IPC (4件)：
C07C 67/26 ,  C07C 69/003 ,  C07C 69/54 ,  C07B 61/00 300
FI (4件)：
C07C 67/26 ,  C07C 69/003 C ,  C07C 69/54 Z ,  C07B 61/00 300
Fターム (18件)：
4H006AA02 ,  4H006AC48 ,  4H006AD41 ,  4H006BA18 ,  4H006BA32 ,  4H006BB17 ,  4H006BB71 ,  4H006BC10 ,  4H006BC18 ,  4H006BC19 ,  4H006BC40 ,  4H006BD20 ,  4H006KA19 ,  4H006KC14 ,  4H039CA66 ,  4H039CD10 ,  4H039CF90 ,  4H039CH70
引用特許：
審査官引用 (4件)
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