特許

J-GLOBAL ID：200903037230179278

高純度合成クリストバライト粉、その製造方法及びシリカガラス

発明者： 山形 茂 ,  釣賀 英樹
出願人/特許権者： 信越石英株式会社
代理人 (1件)： 服部 平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-290326
公開番号（公開出願番号）：特開平8-133719
出願日： 1994年11月01日
公開日（公表日）： 1996年05月28日
要約：

【要約】【構成】高純度合成シリカガラス粉を水蒸気雰囲気で、高温高圧処理した、リチウム、ナトリウム、カリウムのアルカリ金属元素濃度及びカルシウム、マグネシウムのアルカリ土類金属元素濃度が各々100wtppb以下、並びにチタン、クロム、鉄、ニッケル、銅の遷移金属元素濃度が各々50wtppb以下であることを特徴とする合成クリストバライト粉、その製造方法、及びそれをガラス化したシリカガラス。【効果】本発明のクリストバライト粉は半導体工業でシリコンウェハーの特性に悪影響を及ぼすアルカリ金属元素及びアルカリ土類金属元素が少なく、それを原料としたシリカガラスは高純度で、不純物元素濃度、特にアルカリ元素濃度が低く、しかも耐熱性が高いところから半導体熱処理用治具材料として有用である。

請求項（抜粋）：

高純度合成シリカガラス粉を水蒸気雰囲気で高温高圧処理した、リチウム、ナトリウム、カリウムのアルカリ金属元素濃度及びカルシウム、マグネシウムのアルカリ土類金属元素濃度が各々100wtppb以下、並びにチタン、クロム、鉄、ニッケル、銅の遷移金属元素濃度が各々50wtppb以下であることを特徴とする合成クリストバライト粉。

IPC (5件)：

C01B 33/18 ,  C03B 20/00 ,  C03C 3/06 ,  H01L 21/22 501 ,  H01L 21/68