特許
J-GLOBAL ID:200903037232163875

スチレン基を有するUV吸収ベンゾトリアゾール

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中村 稔 (外6名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-523545
公開番号(公開出願番号):特表平8-509227
出願日: 1994年04月22日
公開日(公表日): 1996年10月01日
要約:
【要約】紫外線吸収ポリマーを調製する反応性モノマーは、式(I)を有する(式中、R1は、ハロゲン又はC1-C6の直鎖もしくは分岐鎖のアルコキシ基であり、R2は、-(CH2)3O-、-(CH2)2O-、-CH(CH3)CH2O-、-CH2CH(CH3)O-、-(CH2)3OCH2-、-(CH2)2OCH2-、-CH(CH3)CH2OCH2-、又は-CH2CH(CH3)OCH2-基である。)。この化合物は、コンタクトレンズ及び眼内レンズを含む光学装置に用いるような紫外線吸収ポリマーを製造するのに用いることができる。
請求項(抜粋):
以下の式を有する化合物。 (式中、R1は、ハロゲン又はC1-C6の直鎖もしくは分岐鎖のアルコキシ基であり、R2は、-(CH2)3O-、-(CH2)2O-、-CH(CH3)CH2O-、-CH2CH(CH3)O-、-(CH2)3OCH2-、-(CH2)2OCH2-、-CH(CH3)CH2OCH2-、又は-CH2CH(CH3)OCH2-基である。)
IPC (15件):
C07D249/20 503 ,  C08F210/00 MJR ,  C08F212/14 MJY ,  C08F220/10 MLZ ,  C08F226/10 MNN ,  C08F230/08 MNU ,  C08F236/10 MPF ,  C08F271/02 ,  C08F293/00 MRC ,  C08G 18/00 NGB ,  C08G 65/26 NQN ,  C08G 65/40 NQW ,  C08G 69/00 NRB ,  C08K 5/3475 KBM ,  C09K 3/00 104
FI (15件):
C07D249/20 503 ,  C08F210/00 MJR ,  C08F212/14 MJY ,  C08F220/10 MLZ ,  C08F226/10 MNN ,  C08F230/08 MNU ,  C08F236/10 MPF ,  C08F271/02 ,  C08F293/00 MRC ,  C08G 18/00 NGB ,  C08G 65/26 NQN ,  C08G 65/40 NQW ,  C08G 69/00 NRB ,  C08K 5/3475 KBM ,  C09K 3/00 104 C

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