特許

J-GLOBAL ID：200903037237579654

ビーム照射方法及び装置並びに記録媒体作成方法

発明者： 浅井 雅文
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-085429
公開番号（公開出願番号）：特開2002-288890
出願日： 2001年03月23日
公開日（公表日）： 2002年10月04日
要約：

【要約】【課題】光ディスク原盤を作製する場合に使用する電子ビーム照射装置に関し、その描画時間の短縮を実現し、かつ形状的に同精度、位置的に高精度のピットを形成できるようにして、高品質の光ディスク原盤を得ることができるようにする。【解決手段】電子ビーム偏向と原盤の搭載されているステージの動作とを連携させた電子ビーム照射を行ない、電子ビームのブランキング状態時間を短くし、原盤への電子ビーム照射時間を長くする。

請求項（抜粋）：

移動する照射対象にビームを照射するビーム照射方法であって、前記照射対象の移動方向に前記ビームを変移させつつ、前記照射対象にビームを照射することを特徴とするビーム照射方法。

IPC (2件)：

G11B 7/26 501 ,  G11B 7/0045

FI (2件)：

G11B 7/26 501 ,  G11B 7/0045 Z

Fターム (11件)：

5D090AA01 ,  5D090BB01 ,  5D090CC01 ,  5D090CC16 ,  5D090KK03 ,  5D090KK17 ,  5D121AA02 ,  5D121BB21 ,  5D121BB26 ,  5D121BB38 ,  5D121BB40