特許
J-GLOBAL ID:200903037239735998

ポジ型フォトレジスト用の混合溶剤系

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 江崎 光史 (外3名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-523737
公開番号(公開出願番号):特表2000-502467
出願日: 1996年12月17日
公開日(公表日): 2000年02月29日
要約:
【要約】少なくとも一種の水不溶性で水性アルカリ可溶性の膜形成性ノボラック樹脂;少なくとも一種の o-ジアゾナフトキノン系感光化剤;及びプロピレングリコールアルキルエーテルアセテートと 3-メチル-3-メトキシブタノールとを含むフォトレジスト溶剤混合物の混合物からなる、フォトレジストとして使用するのに適したポジ型感光性組成物、及びこのような組成物を製造する方法。
請求項(抜粋):
少なくとも一種の水不溶性で水性アルカリ可溶性の膜形成性のノボラック樹脂; 少なくとも一種の o-ジアゾナフトキノン系感光化剤; 及びプロピレングリコールアルキルエーテルアセテートと 3-メチル-3-メトキシブタノールとを含むフォトレジスト溶剤混合物の混合物から本質的になる、フォトレジストとして使用するのに適した感光性ポジ型感光性組成物。
IPC (3件):
G03F 7/004 501 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/027
FI (3件):
G03F 7/004 501 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/30 502 R

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