特許
J-GLOBAL ID：200903037248281525
自己組織化によるガス拡散電極の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-245442
公開番号（公開出願番号）：特開平11-080985
出願日： 1997年09月10日
公開日（公表日）： 1999年03月26日
要約：
【要約】【課題】 製造工程が簡素化され、製造時間も短縮され、かつ高い酸素還元性能を有するガス拡散電極の反応層を製造する。【解決手段】 水にガス拡散電極の反応層構成材料の1次粒子が平均粒径1ミクロン以下の微粒子及び界面活性剤を撹拌又は超音波照射下に添加して、高度の分散状態になるように分散させ、次いでフッ素樹脂微粒子を添加して上記撹拌又は超音波照射を継続して分散混合した後、微粒子を安定分散させている界面活性剤のミセル構造をミセル破壊剤を添加して凝集制御することにより反応層構成材料の微粒子とフッ素樹脂微粒子を自己組織化させ、それによりガス拡散電極の原料を製造することを特徴とするガス拡散電極の製造方法。その原料から反応層を製造する。
請求項（抜粋）：
水にガス拡散電極の反応層構成材料の1次粒子が平均粒径1ミクロン以下の微粒子及び界面活性剤を撹拌又は超音波照射下に添加して、高度の分散状態になるように分散させ、次いでフッ素樹脂微粒子を添加して上記撹拌又は超音波照射を継続して分散混合した後、微粒子を安定分散させている界面活性剤のミセル構造をミセル破壊剤を添加して凝集制御することにより反応層構成材料の微粒子とフッ素樹脂微粒子を自己組織化させ、それによりガス拡散電極の原料を製造することを特徴とするガス拡散電極の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C25B 11/03
, C25B 11/04 A
