特許
J-GLOBAL ID：200903037257938227
レジスト塗布方法およびその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-078614
公開番号（公開出願番号）：特開平6-267836
出願日： 1993年03月15日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：
【要約】【目的】 レジスト塗布装置を簡単化する。【構成】 レジストが周囲に散乱するのを防止するためのカップ5は固定配置されている。チャック台3は円形であって、その上面中央部には角形の凹部11が設けられている。そして、ガラス基板7を凹部11内に装着し、スピンドルチャック台1を回転させ、レジスト滴下用ノズル6から一定量のレジストを滴下させると、ガラス基板7上にレジストが塗布される。この場合、円形のチャック台3および角形のガラス基板7がカップ5内の空気の流動を乱すことが少なく、この結果カップ5を固定配置しても安定した雰囲気中でレジストを塗布することができる。したがって、カップ5をスピンドルチャック台1と同方向に等速度で回転させる場合と比較して、装置を簡単化することができる。
請求項（抜粋）：
固定配置されたカップ内に回転可能に配置された円形のチャック台の上面に形成された角形の凹部内に角形の基板を装着し、前記チャック台を回転させながら前記基板上にレジストを滴下し、遠心力により前記レジストを前記基板の上面全体に拡散させることにより、前記基板上に前記レジストを塗布することを特徴とするレジスト塗布方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, B05C 11/08
, G02F 1/1343
, G03F 7/16 502
