特許
J-GLOBAL ID：200903037271392903
基板表面の電圧分布の検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-195683
公開番号（公開出願番号）：特開平7-092236
出願日： 1993年08月06日
公開日（公表日）： 1995年04月07日
要約：
【要約】【目的】 複雑な計算を伴う画像処理を行わずに、高速に回路パターンの欠陥検出を行うと共に、様々な回路デザインに容易に対応する。【構成】 基板1上に僅かな間隔で電気光学変調素子6を配し、光源10からの光束iで偏光ビームスプリッター13を介して電気光学変調素子6を照明する。電気光学変調素子6から戻される光束14が、偏光ビームスプリッター13、フーリエ変換レンズ16を経てフーリエ変換面17上に基板1の表面の電圧分布像のフーリエ変換パターンを形成する。このフーリエ変換パターンから空間フィルター20により誤りが無い場合のフーリエ変換成分を除去した後の光束が、逆フーリエ変換レンズ22を経て撮像素子18上に欠陥部の電圧像を結像する。
請求項（抜粋）：
基板上に形成された所定のパターンの欠陥を検出するために、前記パターンに電圧を印加して前記基板の表面の電圧分布を検査する装置において、前記基板の表面に近接して配され、前記基板の表面の電圧分布に応じて内部に形成された電界分布により、外部から入射する光ビームに変調を施す電気光学変調素子と、該電気光学変調素子に光ビームを照射する光ビーム照射光学系と、前記電気光学変調素子による変調を受けて射出される光ビームを空間周波数成分に分解するフーリエ変換光学系と、前記光ビームの空間周波数成分の内、前記基板上の所定のパターンに欠陥が無い場合に前記電気光学変調素子による変調を受けて射出された光ビームの空間周波数成分と合致する無欠陥成分を阻止する空間フィルターと、該空間フィルターを通過した空間周波数成分を集めて前記基板上の所定のパターンの欠陥に対応する電圧分布の像を形成する逆フーリエ変換光学系と、前記基板上の所定のパターンの欠陥に対応する電圧分布の像を光電変換する光電変換手段と、該光電変換手段からの光電変換信号より前記基板のパターンの欠陥に対応する電圧分布を求める信号処理手段と、を有することを特徴とする基板表面の電圧分布の検査装置。
IPC (3件)：
G01R 31/302
, G01N 21/88
, H01L 21/66
