特許

J-GLOBAL ID：200903037272138750

プローブ担体の製造方法および製造装置

発明者： 渡辺 秀則
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 谷 義一 ,  阿部 和夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-176340
公開番号（公開出願番号）：特開2004-020393
出願日： 2002年06月17日
公開日（公表日）： 2004年01月22日
要約：

【課題】プローブ担体基板上に配置された各プローブ材料に、異なるプローブ材料が混ざることのない、配置された各プローブ材料の純度が高い良好なプローブ担体の製造方法の提供。【解決手段】複数の液体吐出口がm列、n行の二次元の配列で開口した液体吐出口面を有する液体吐出部から複数種のプローブの夫々に対応した複数種のプローブ溶液を基板上に吐出することにより、前記基板上に複数種のプローブの各々が配置されたプローブ担体を製造する方法であって、液体吐出口面を払拭部を用いて払拭する工程を備え、払拭工程において、ある液体吐出口上を通過する払拭部の部分が他の液体吐出口上を通過しない方向に払拭することを特徴とするプローブ担体の製造方法。【選択図】 図10

請求項（抜粋）：

複数の液体吐出口がm列、n行の二次元の配列で開口した液体吐出口面を有する液体吐出部から複数種のプローブの夫々に対応した複数種のプローブ溶液を基板上に吐出することにより、前記基板上に複数種のプローブの各々が配置されたプローブ担体を製造する方法であって、 前記液体吐出口面を払拭部を用いて払拭する工程を備え、 前記払拭工程において、ある液体吐出口上を通過する前記払拭部の部分が他の液体吐出口上を通過しない方向に払拭することを特徴とするプローブ担体の製造方法。

IPC (4件)：

G01N33/53 ,  B41J2/165 ,  C12N15/09 ,  G01N37/00

FI (4件)：

G01N33/53 M ,  G01N37/00 102 ,  B41J3/04 102H ,  C12N15/00 F

Fターム (15件)：

2C056EA12 ,  2C056EA16 ,  2C056FA03 ,  2C056FA10 ,  2C056HA01 ,  2C056HA22 ,  2C056JB04 ,  2C056JB08 ,  4B024AA11 ,  4B024AA20 ,  4B024CA01 ,  4B024CA09 ,  4B024CA11 ,  4B024HA12 ,  4B024HA19