アクリル系共重合体およびそれを含有する反射防止膜形成組成物並びにレジスト膜の形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岩見谷周志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-149872
公開番号（公開出願番号）：特開2001-027810
出願日： 1999年05月28日
公開日（公表日）： 2001年01月30日
要約：

【要約】【課題】反射防止膜は反射防止効果が高く、レジスト膜とインターミキシングを生じることがなく、エッチング速度が高く、解像度及び精度等に優れたレジストパターンを形成しうる反射防止膜形成組成物を提供する。【解決手段】一般式(1)で示される構造単位および下記一般式(2)で示される構造単位を有する共重合体、該共重合体と溶剤とを含有する反射防止膜形成組成物。【化1】(式中、R1は水素原子、ハロゲン原子または炭素原子数1〜6の炭化水素基など、R2は、水素原子またはメチル基を示し、mは1〜9の整数を示す。)【化2】(式中、R3は、水素原子またはメチル基を示し、R4は、水素原子または有機基を示す。)

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示される構造単位および下記一般式(2)で示される構造単位を有する共重合体:【化1】(式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜6の炭化水素基、ニトロ基、第1級アミノ基、ヒドロキシ基、アシル基、カルボキシル基、スルホン基またはメルカプト基を示し、R1が複数存在する場合にはそれらは同一でも異なってもよく、R2は、水素原子またはメチル基を示し、mは1〜9の整数を示す。)【化2】(式中、R3は、水素原子またはメチル基を示し、R4は、水素原子または有機基を示す。)。

IPC (7件)：

G03F 7/11 503 , C08F220/12 , C08F220/58 , C08L 33/04 , C08L 33/26 , G03F 7/027 514 , H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 7/11 503 , C08F220/12 , C08F220/58 , C08L 33/04 , C08L 33/26 , G03F 7/027 514 , H01L 21/30 574

Fターム (44件)：

2H025AA00 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC01 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025DA34 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 2H025FA41 , 4J002BC011 , 4J002BF011 , 4J002BG041 , 4J002BG051 , 4J002BG071 , 4J002BG101 , 4J002BG131 , 4J002BH001 , 4J002FD150 , 4J002FD206 , 4J002GH01 , 4J002GP03 , 4J100AL08P , 4J100AM41Q , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA04Q , 4J100BA05Q , 4J100BA06Q , 4J100BA14P , 4J100BA16P , 4J100BA29P , 4J100BA41P , 4J100BA52P , 4J100BA58P , 4J100BB01P , 4J100BB03P , 4J100BC48P , 4J100CA04 , 4J100JA38 , 5F046PA07

引用特許：

審査官引用 (1件)

光重合性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-082914 出願人：キヤノン株式会社, サンノプコ株式会社

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