特許

J-GLOBAL ID：200903037276627771

投影露光装置の露光面の位置の設定方法およびそれに用いるマスク

発明者： 田中 靖明
出願人/特許権者： ローム株式会社
代理人 (1件)： 河村 洌 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-185806
公開番号（公開出願番号）：特開平9-036023
出願日： 1995年07月21日
公開日（公表日）： 1997年02月07日
要約：

【要約】【課題】 投影露光装置における投影レンズと露光面との最適距離を設定するのに、100倍程度の光学顕微鏡を用い、簡単で客観的に設定することができる投影露光装置の露光面の位置の設定方法およびそれに用いるマスクを提供する。【解決手段】 (a)テスト基板にレジスト膜を塗布し、(b)該テスト基板のレジスト膜面に複数個のパターン1が形成されたマスクを被せて投影露光装置の露光面に載置し、(c)前記投影露光装置の投影レンズと前記露光面との距離を少しづつ変化させながら前記複数個のパターンの1個1個を順次露光し、(d)前記レジスト膜を現像し前記テスト基板に形成されたパターンの形状により前記投影レンズと露光面とのあいだの最適距離を設定する、ことにより露光面の位置を設定する方法であって、前記マスクとして小さい鋭角を有する3角形状の模様A、Bを有するパターンが形成されたマスクを使用する。

請求項（抜粋）：

(a)テスト基板にレジスト膜を塗布し、(b)該テスト基板のレジスト膜面に複数個のパターンが形成されたマスクを被せて投影露光装置の露光面に載置し、(c)前記投影露光装置の投影レンズと前記露光面との距離を少しづつ変化させながら前記複数個のパターンの1個1個を順次露光し、(d)前記レジスト膜を現像し前記テスト基板に形成されたパターンの形状により前記投影レンズと露光面とのあいだの最適距離を設定することにより投影露光装置の露光面の位置を設定する方法であって、前記マスクとして小さい鋭角を有する3角形状の模様を有するパターンが形成されたマスクを使用することを特徴とする露光装置の露光面の位置の設定方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/207

FI (6件)：

H01L 21/30 526 Z ,  G03F 1/08 M ,  G03F 7/207 H ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 522 B ,  H01L 21/30 525 A