特許

J-GLOBAL ID：200903037283662388

珪素樹脂の製造方法、珪素樹脂及び絶縁膜形成用塗布液

発明者： 田口 敏 ,  吉田 祐司 ,  根津 秀明
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-059584
公開番号（公開出願番号）：特開平9-324052
出願日： 1997年03月13日
公開日（公表日）： 1997年12月16日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 保管安定性に優れ、かつ該珪素樹脂を樹脂成分として含有する絶縁膜形成用塗布液はSi-H結合又はSi-F結合を樹脂内に安定的に保持できるため、膜形成時の収縮も小さく、耐クラック性に優れ、膜厚が1.0μm以上の緻密な絶縁膜を形成することが可能であるという優れた特徴を有する珪素樹脂の製造方法、及び該珪素樹脂を樹脂成分として含有する絶縁膜形成用塗布液を提供する。【解決手段】 水の不存在下、下記一般式(1)で表されるトリアルコキシシラン化合物の一種又は二種以上を無機酸及びカルボン酸と接触させることにより縮合反応に付す珪素樹脂の製造方法、該製造方法により得られる珪素樹脂及び該珪素樹脂を樹脂成分として含有する絶縁膜形成用塗布液。X-Si-(OR1 )(OR2 )(OR3 ) (1)(Xは水素原子又はフッ素原子を表し、R1 〜R3 は同一又は異なる炭素数1〜4のアルキル基を表す。)

請求項（抜粋）：

水の不存在下、下記一般式(1)で表されるトリアルコキシシラン化合物の一種又は二種以上を無機酸及びカルボン酸と接触させることにより縮合反応に付す珪素樹脂の製造方法。X-Si-(OR1 )(OR2 )(OR3 ) (1)(Xは水素原子又はフッ素原子を表し、R1 〜R3 は同一又は異なる炭素数1〜4のアルキル基を表す。)

IPC (2件)：

C08G 77/06 NUB ,  C09D183/04 PMS

FI (2件)：

C08G 77/06 NUB ,  C09D183/04 PMS