特許

J-GLOBAL ID：200903037298279025

揮発性汚染物質の浄化処理装置および浄化処理方法

発明者： 牛尾 亮三 ,  増田 幹
出願人/特許権者： 住友金属鉱山株式会社
代理人 (1件)： 宮川 清 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-319130
公開番号（公開出願番号）：特開2001-129540
出願日： 1999年11月10日
公開日（公表日）： 2001年05月15日
要約：

【要約】【課題】 地下水中に含まれる揮発性汚染物質を効率よく分解し、活性炭の交換頻度を少なくするとともに、省スペースかつ低コスト化が可能な揮発性汚染物質の浄化処理装置及び浄化処理方法を提供する。【解決手段】 揚水ポンプ4で汲み上げられた地下水は送水管11を介して曝気装置4に導入され、曝気された気体が吸引ブロワー5によって、気液分離槽6を通って活性炭槽7に導入される。大気中の空気は空気乾燥器8を介してオゾンガス発生装置9に導入され、生成されたオゾンガスを含む気体が曝気装置4に導入される。曝気装置4では、地下水が噴霧される位置に、紫外線ランプ24とその周囲に保護管26が設けられており、地下水は保護管26の表面を流下する際に薄い液層となる。その際、地下水中にオゾンが吸収されるとともに、オゾンが紫外線によってラジカル化され、地下水中に含まれる揮発性汚染物質が酸化分解される。

請求項（抜粋）：

揮発性汚染物質を含有する汚染水と気体とが導入され、該汚染水中に含有する揮発性汚染物質を前記気体中に気化させる曝気装置と、前記曝気装置内にオゾンガスを供給するオゾンガス発生装置と、前記曝気装置内に配置され、前記汚染水に含まれる揮発性汚染物質の分解を促進する紫外線照射装置と、前記曝気装置から排出される気体が導入され、該気体中に含有する揮発性汚染物質を吸着させて除去する活性炭槽とを有し、前記曝気装置は、導入される前記汚染水を薄い液層にして流下させる流下面形成材を備え、前記紫外線照射装置は、前記流下面形成材上を流下する液層に紫外線を照射するものであることを特徴とする揮発性汚染物質の浄化処理装置。

IPC (5件)：

C02F 1/20 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/81 ZAB ,  B01D 53/70 ,  C02F 1/32

FI (4件)：

C02F 1/20 A ,  C02F 1/32 ,  B01D 53/34 ZAB B ,  B01D 53/34 134 E

Fターム (27件)：

4D002AA21 ,  4D002AC10 ,  4D002BA04 ,  4D002BA05 ,  4D002BA09 ,  4D002BA16 ,  4D002CA01 ,  4D002CA04 ,  4D002CA07 ,  4D002CA13 ,  4D002CA20 ,  4D002DA41 ,  4D002DA51 ,  4D002GA01 ,  4D002GB02 ,  4D002GB04 ,  4D002GB20 ,  4D002HA03 ,  4D037AA01 ,  4D037AB14 ,  4D037BA18 ,  4D037BA24 ,  4D037BB05 ,  4D037BB07 ,  4D037CA01 ,  4D037CA11 ,  4D037CA12