特許
J-GLOBAL ID：200903037309680134
プラズマを利用した成膜装置およびその方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-186754
公開番号（公開出願番号）：特開平8-222554
出願日： 1995年07月24日
公開日（公表日）： 1996年08月30日
要約：
【要約】【課題】 成膜中に高流動性を示す膜をその流動性を失わせることなく成膜でき、かつ質の良い膜を成膜できるようにする。【解決手段】 成膜装置1においては、チャンバー2内に、上部電極3と、上部電極4の下方に上部電極3に対向した状態で配置された下部電極4とが設けられている。またチャンバー2内において、下部電極4の下方には試料としてのウエハ50用の保持台5が設置されており、チャンバー2には液体物質を気化させてなる原料ガスの第2導入管7が接続されている。なお、下部電極4には、上下を貫通する小孔4aが多数形成されており、また第2導入管7は、その先端開口7aが保持台5と下部電極4との間に配置されている。
請求項（抜粋）：
チャンバー内に発生させたプラズマを利用して前記チャンバー内に配置した試料の表面に膜を形成する成膜装置において、前記チャンバー内に配置された上部電極と、前記チャンバー内にて前記上部電極の下方に配置されるとともに該上部電極に対向した状態で設けられた下部電極と、前記チャンバー内にて前記下部電極の下方に設置された前記試料用の保持台と、前記チャンバーに接続され、液体物質を気化させてなる原料ガスの導入管とを備えてなり、前記下部電極には、上下を貫通する小孔が多数形成され、前記導入管は、その先端開口が前記保持台と前記下部電極との間に配置されていることを特徴とするプラズマを利用した成膜装置。
IPC (4件)：
H01L 21/31
, C23C 16/44
, C23C 16/50
, H01L 21/205
H01L 21/31 C
, C23C 16/44 D
, C23C 16/50
, H01L 21/205
