特許
J-GLOBAL ID：200903037311605506
露光装置及びステージ装置、並びにデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-157410
公開番号（公開出願番号）：特開2004-072076
出願日： 2003年06月03日
公開日（公表日）： 2004年03月04日
要約：
【課題】他の露光性能を損なうことなく、スループットの向上を図る。【解決手段】制御装置50により、ウエハW上の1つの区画領域に対する露光終了後から、次の区画領域の露光のために、ステージ制御系(80、33、78)によってステージRSTとステージWSTの走査方向に関する減速が開始されるまでの期間に、次の区画領域の露光のために必要な制御パラメータの設定情報がステージ制御系に送られる。このため、次の区画領域の露光のために必要な制御パラメータの設定情報をステージ制御系が上位装置から受け取るために、両ステージを加速前に一旦停止させる必要がなく、その停止時間がない分、スループットの向上が可能となる。この場合、特に支障は生じないので、他の露光性能を損なうことはない。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
マスクと物体とを所定の走査方向に同期移動して、前記物体上の複数の区画領域に前記マスクのパターンを順次転写する露光装置であって、
前記マスクを保持して少なくとも前記走査方向に移動可能なマスクステージと;
前記物体を保持して2次元平面内を移動可能な物体ステージと;
前記両ステージを制御するステージ制御系と;
前記1つの区画領域に対する遅くとも露光終了後から、次の区画領域の露光のために、前記ステージ制御系によって前記両ステージの前記走査方向に関する減速が開始されるまでの期間に、少なくとも次の区画領域の露光のために必要な制御パラメータの設定情報を前記ステージ制御系に送る制御装置と;を備える露光装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 516B
, G03F7/20 521
, H01L21/30 518
5F046BA05
, 5F046CC01
, 5F046CC02
, 5F046CC03
, 5F046CC16
, 5F046CC18
, 5F046DA06
, 5F046DA07
, 5F046DA08
, 5F046DD06
