特許

J-GLOBAL ID：200903037322280641

電気化学処理装置

発明者： 吉田 泰樹 ,  尾形 節郎 ,  錦 善則 ,  島宗 孝之 ,  井上 博史 ,  岩倉 千秋
出願人/特許権者： ペルメレック電極株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-260403
公開番号（公開出願番号）：特開平11-090449
出願日： 1997年09月25日
公開日（公表日）： 1999年04月06日
要約：

【要約】【課題】 有機着色廃水の脱色を選択的に行うと共に効率的に無害化処理する装置を提供する。【解決手段】 水素吸蔵金属からなる陰極を兼ねた隔壁2により仕切られた反応室3と電解室4の2室からなり、電解室4には酸化用陽極7を該隔壁2の陰極と対向して配置した電気化学処理装置であって、被処理物が反応室3に入って該水素吸蔵金属隔壁2と接触して水素添加、又は還元された後、電解室4に送られて陽極酸化処理されるか、もしくは、被処理物が電解室4に入って陽極酸化処理された後、反応室3に送られて該水素吸蔵金属隔壁と接触して水素添加、又は還元されることを特徴とする電気化学処理装置。前記の陰極を兼ねた隔壁の反応室側表面に反応触媒層を設けることができる。

請求項（抜粋）：

水素吸蔵金属からなる陰極を兼ねた隔壁により仕切られた反応室と電解室の2室からなり、電解室には酸化用陽極を該隔壁の陰極と対向して配置した電気化学処理装置であって、被処理物が反応室に入って該水素吸蔵金属隔壁と接触して水素添加、又は還元された後、電解室に送られて陽極酸化処理されるか、もしくは、被処理物が電解室に入って陽極酸化処理された後、反応室に送られて該水素吸蔵金属隔壁と接触して水素添加、又は還元されることを特徴とする電気化学処理装置。

IPC (3件)：

C02F 1/461 ,  C02F 1/58 ZAB ,  C02F 1/70 CCR

FI (3件)：

C02F 1/46 101 C ,  C02F 1/58 ZAB D ,  C02F 1/70 CCR Z

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 有機化合物の水素化方法及び電解槽
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-352862   出願人：ペルメレック電極株式会社
• 水素化方法及び電解槽
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-013083   出願人：ペルメレック電極株式会社