特許

J-GLOBAL ID：200903037353326100

マイクロ構造体及びその製造方法並びにマイクロ構造体の応用装置並びにその製造方法

発明者： 杉山 進 ,  山口正洋 ,  荒井賢一
出願人/特許権者： 関西ティー・エル・オー株式会社
代理人 (1件)： 大木 健一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-215737
公開番号（公開出願番号）：特開2002-028899
出願日： 2000年07月17日
公開日（公表日）： 2002年01月29日
要約：

【要約】【課題】 微細加工プロセスにより形成される長く、かつアスペクト比の大きなマイクロ構造体を提供する。【解決手段】 基板と、前記基板上に複数形成された長くかつアスペクト比の大きな構造体2と、前記構造体に分散して複数設けられて前記構造体が倒れないように支持する支持部2a,2bとを備える。前記支持部の幅q、tは前記構造体2の幅よりも大きく、前記支持部2a,2bは隣接する前記構造体に接触しないように設けられている。

請求項（抜粋）：

基板と、前記基板上に複数形成された長くかつアスペクト比の大きな構造体と、前記構造体に分散して複数設けられて前記構造体が倒れないように支持する支持部とを備え、前記支持部の幅は前記構造体の幅よりも大きく、前記支持部は隣接する前記構造体に接触しないように設けられていることを特徴とするマイクロ構造体。

IPC (5件)：

B81B 1/00 ,  B81C 1/00 ,  G02B 5/18 ,  G12B 15/06 ,  H01P 1/215

FI (5件)：

B81B 1/00 ,  B81C 1/00 ,  G02B 5/18 ,  G12B 15/06 ,  H01P 1/215

Fターム (10件)：

2F078GB03 ,  2F078GB16 ,  2H049AA03 ,  2H049AA43 ,  2H049AA48 ,  2H049AA50 ,  2H049AA59 ,  5J006HD04 ,  5J006LA02 ,  5J006LA25