浸漬式の液処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：富田幸春
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-355437
公開番号（公開出願番号）：特開平7-132262
出願日： 1986年12月17日
公開日（公表日）： 1995年05月23日
要約：

【要約】【目的】ウエハ等の被処理基板を現像液等によって液処理するに、該処理液の供給による好ましくない影響や温度変化による処理影響をなくすようにする。【構成】ドーナツの収納容器を成す下容器14上に下シール13を介し被処理基板5を載置し、下容器14と該下容器14より大径の上容器15により所定の液処理をするに際し、該上容器15の外面に載置した被処理基板5に平行に処理液6の吐出口21を設け、被処理基板5に対する衝撃的な処理液供給を行わないようにし、又、該上容器15には調温機構としての温調供給通路22をを設けて処理液の定温を図り、温度影響による処理むらをなくし、処理液の衝撃的供給による悪影響をないようにする。【効果】被処理基板5に対して供給される処理液が衝撃的吐出によらず、静穏に液盛り状に供給され、しかも、常に一定温度に保たれるようにすることから、被処理基板は設計通りの均一な処理がなされ、製品精度に対する信頼が大きく得られる。

請求項（抜粋）：

被処理基板の下面周辺部と液密に接触して収納容器の底面部を成す第一の容器と、該被処理基板より大きな内径を有し、該第一の容器の上面周縁部と液密に接触して該収納容器の側壁部を成す第二の容器と、該第二の容器の内周部に設けられた複数の処理液吐出口と、該処理液吐出口から上記第一の容器と第二の容器から成る収納容器内に処理液を供給する処理液供給機構と、上記処理液吐出口から吐出される処理液の温度を制御する上記第二の容器に設けられた温度調整機構とを備え、上記収納容器内に所定の温度の処理液を被処理基板表面に衝撃を与えることなく供給するようにしたことを特徴とする浸漬式の液処理装置。

IPC (6件)：

B05C 11/08 , B05C 3/09 , G03F 7/16 502 , G03F 7/30 502 , H01L 21/027 , H01L 21/306

FI (3件)：

H01L 21/30 564 C , H01L 21/30 569 C , H01L 21/306 J

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