特許
J-GLOBAL ID:200903037361878481
複数個の波長を使用して薄膜内の応力を測定するレ-ザ装置及び方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小橋 一男 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-203006
公開番号(公開出願番号):特開平6-003130
出願日: 1991年08月13日
公開日(公表日): 1994年01月11日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】薄膜の存在に起因して基板の局所的曲率半径における変化を測定することによって、基板の上部上に形成されている薄膜における応力を測定するためにレーザを使用する技術を提供する。【構成】夫々波長λ1及びλ2を持った2つのモノクロレーザL1及びL2が直交して位置されており、従ってそれらの個々のビームB1及びB2は光学要素P(例えば、ビームスプリッタプリズム)によって結合されてレーザビームB3を形成し、それはサンプルS上に入射される。反射ビームBRは、光検知器(不図示)によって検知されて、レーザビームB3の入射点における反射角度を決定する。サンプルS又は装置(即ち、光学要素P及びレーザL1及びL2)のいずれかが、サンプルSの表面上の複数個の点にわたって測定するために、移動させることが可能である場合には、この例は、走査型レーザ反射応力測定装置を構成する。
請求項(抜粋):
表面の局所的曲率半径を測定する装置において、複数個の波長から選択可能な1つの波長を持ったレ-ザビ-ムを供給する手段、前記レ-ザビ-ムの反射ビ-ムを与えるために前記表面上へ前記レ-ザビ-ムを指向させる手段、前記反射ビ-ムの角度を検知する手段、を有することを特徴とする装置。
IPC (2件):
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特開昭63-200006
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特開昭63-201505
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特開昭62-115310
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