特許
J-GLOBAL ID：200903037370149832
パターン検査方法及び検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
平木 祐輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-052953
公開番号（公開出願番号）：特開平10-256326
出願日： 1997年03月07日
公開日（公表日）： 1998年09月25日
要約：
【要約】【課題】 焦点面計測精度や位置決め精度に対して焦点深度が小さい場合においても欠陥が検出でき、疑似欠陥を誤検出しないようにする。【解決手段】 検査したい正常なパターンに焦点が合致した画像(基準パターン画像という)を格納する画像格納手段14と、その基準パターン画像に対して最も近い画像を自動的に選択し参照用パターン画像とする手段を備える。参照用パターン画像を選択する手段は、顕微鏡の対物レンズ6と被検体5の表面のパターンまでの距離を変えることで異なるパターンに焦点が合った画像の中から、基準パターン画像に対して最も近い画像を選択する。選択された参照用パターン画像は参照用メモリ11に記憶され、欠陥検出処理部16,17での処理で参照される。
請求項（抜粋）：
検査パターン画像を参照用パターン画像と比較してパターンの欠陥検査を行うパターン検査方法において、正常なパターンで正確に焦点があった基準パターン画像に対して最も近い検査パターン画像を選択して前記参照用パターン画像とすることを特徴とするパターン検査方法。
IPC (4件)：
H01L 21/66
, G01B 11/24
, G01N 21/88
, G06T 7/00
H01L 21/66 J
, G01B 11/24 F
, G01N 21/88 J
, G06F 15/62 405 A
, G06F 15/70 465 Z
