接触転写装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：後藤憲秋 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-190926
公開番号（公開出願番号）：特開平7-020733
出願日： 1993年07月02日
公開日（公表日）： 1995年01月24日
要約：

【要約】【目的】像担持体に対する転写ローラの当接圧力をが小さくするとともに、像担持体に対する転写ローラの当接面積を大にして、転写効率の向上および転写文字中抜け防止の両者を達成できる接触転写装置を提供する。【構成】回転する像担持体10に転写ローラが当接する接触転写装置において、前記転写ローラを導電性を有する薄肉のチューブ状とし、前記チューブ状転写ローラ20を像担持体10に押圧して、前記像担持体10との当接部21を像担持体10表面に沿って湾曲させる。

請求項（抜粋）：

回転する像担持体に転写ローラが当接する接触転写装置において、前記転写ローラを導電性を有する薄肉のチューブ状とし、前記チューブ状転写ローラを像担持体に押圧して、前記像担持体との当接部が像担持体表面に沿って湾曲するようにしたことを特徴とする接触転写装置。

引用特許：

審査官引用 (3件)

帯電体
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-293181 出願人：バンドー化学株式会社
特開昭63-318581
特開昭63-318581

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