特許

J-GLOBAL ID：200903037385221521

粒子分析装置とその粒子分画方法

発明者： 内藤 貴道
出願人/特許権者： シスメックス株式会社
代理人 (1件)： 野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-194838
公開番号（公開出願番号）：特開2002-107287
出願日： 2001年06月27日
公開日（公表日）： 2002年04月10日
要約：

【要約】【課題】 正規分布を示さない粒子群をスキャッタグラム上で精度よく分画すること。【解決手段】 複数の粒子を含む試料から各粒子ごとに粒子の特徴を表す少なくとも2種類のパラメータを検出する検出部と、検出されたパラメータを処理する処理部と、処理部による処理結果を出力する出力部を備え、処理部は検出されたパラメータに基づいて粒子のスキャッタグラムを作成する分布図作成部と、作成されたスキャッタグラム中に予め所定の粒子分布領域を設定する領域設定部と、設定された粒子分布領域の粒子分布状態に適合する分画線を算出し、算出した分画線によってスキャッタグラム上の粒子を分画する分画部を備える。

請求項（抜粋）：

複数の粒子を含む試料から各粒子ごとに粒子の特徴を表す少なくとも2種類のパラメータを検出する検出部と、前記検出部で検出されたパラメータを処理する処理部と、前記処理部による処理結果を出力する出力部を備えた粒子分析装置であって、前記処理部は検出されたパラメータに基づいて粒子のスキャッタグラムを作成する分布図作成部と、作成されたスキャッタグラム中に予め所定の粒子分布領域を設定する領域設定部と、設定された粒子分布領域の粒子分布状態に対応する分画線を算出し、算出した分画線によってスキャッタグラム上の粒子を分画する分画部を備えた粒子分析装置。

IPC (3件)：

G01N 15/14 ,  G01N 33/48 ,  G01N 33/49

FI (4件)：

G01N 15/14 K ,  G01N 15/14 C ,  G01N 33/48 M ,  G01N 33/49 E

Fターム (19件)：

2G045BB39 ,  2G045CA02 ,  2G045CA11 ,  2G045CA25 ,  2G045CB03 ,  2G045FA13 ,  2G045FA14 ,  2G045FA34 ,  2G045FA37 ,  2G045FB12 ,  2G045GB02 ,  2G045GB03 ,  2G045GB10 ,  2G045HA09 ,  2G045HA20 ,  2G045JA01 ,  2G045JA03 ,  2G045JA04 ,  2G045JA08

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 分布データ計測装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-024231   出願人：東亜医用電子株式会社
• 特開昭61-071337
  
• 粒子計数方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-339707   出願人：東亜医用電子株式会社
• 特開平1-308964
  
• 粒子分析装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-247587   出願人：東亞医用電子株式会社