特許
J-GLOBAL ID：200903037391959176
ポリマー組成物及びそのポリマーの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中島 淳 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-233812
公開番号（公開出願番号）：特開平10-090894
出願日： 1997年08月29日
公開日（公表日）： 1998年04月10日
要約：
【要約】【課題】 熱的安定性、低熱膨張率、化学的安定性、耐水性、耐溶剤性、低誘電率、高解像度、機械特性、接着特性に優れた光パターン形成可能ポリマー組成物及びそのポリマーの製造方法を提供する。【解決手段】 化学線にさらしたときポリマーの架橋又は鎖延長を可能にする感光性供与置換基を有する少なくとも幾つかのモノマー繰り返し単位を含むポリマーであり、このポリマーが特定構造を有し、感光性供与置換基は不飽和エステル基である、ポリマー組成物。
請求項（抜粋）：
化学線にさらされた場合にポリマーの架橋又は鎖延長を可能にする感光性供与置換基を有する少なくとも幾つかのモノマー繰り返し単位を含むポリマー組成物であって、該ポリマーは下記の一般式を有し、該感光性供与置換基は不飽和エステル基であることを特徴とする、ポリマー組成物。一般式【化1】式中、xは0又は1の整数であり、nはモノマー繰り返し単位の数を表す整数であり、Aは下記の構造式又はこれらの混合物であり、【化2】【化3】Bは下記の構造式又はこれらの混合物であり、【化4】【化5】【化6】式中、vは1〜約20の整数であり、【化7】式中、zは2〜約20の整数であり、【化8】式中、uは1〜約20の整数であり、【化9】式中、wは1〜約20の整数であり、【化10】【化11】
IPC (4件)：
G03F 7/038 501
, C08G 65/40
, C08L 71/10
, H01L 21/027
G03F 7/038 501
, C08G 65/40
, C08L 71/10
, H01L 21/30 502 R
