特許
J-GLOBAL ID：200903037393214364
ヘキサフルオロエタンの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
矢口 平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-050323
公開番号（公開出願番号）：特開平9-241186
出願日： 1996年03月07日
公開日（公表日）： 1997年09月16日
要約：
【要約】【課題】 ハイドロフルオロカーボン類とフッ素ガスとから安全にかつ効率よくヘキサフルオロエタンを製造する。【解決手段】 分子内に2個の炭素原子を含有するハイドロフルオロカーボン類とフッ素ガスとを気相で希釈ガスの存在下で250〜500°Cで反応させる。
請求項（抜粋）：
分子内に2個の炭素原子を含有するハイドロフルオロカーボン類とフッ素ガスとを気相で希釈ガスの存在下にて、高められた温度で反応させることを特徴とするヘキサフルオロエタンの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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