ホロカソード・ターゲット、ホロカソード成膜装置及びホロカソード成膜方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：飯阪泰雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-100873
公開番号（公開出願番号）：特開2001-288563
出願日： 2000年04月03日
公開日（公表日）： 2001年10月19日
要約：

【要約】【課題】成膜されるべき基板の径が大きくなっても、高さ方向を大きくすることなく対応できるホロカソード・ターゲット、このホロカソード・ターゲットを用いたホロカソード成膜装置及びホロカソード成膜方法を提供すること。【解決手段】ホロカソード・ターゲット10において、深さLが幅Dより大きい凹部13を環状に形成している。

請求項（抜粋）：

深さが幅より大きい凹部を有するホロカソード・ターゲットにおいて、前記凹部を環状に形成したことを特徴とするホロカソード・ターゲット。

IPC (2件)：

C23C 14/34 , G11B 5/84

FI (2件)：

C23C 14/34 B , G11B 5/84 B

Fターム (13件)：

4K029AA21 , 4K029BA34 , 4K029BD11 , 4K029CA05 , 4K029DC05 , 4K029DC13 , 4K029EA01 , 5D112AA07 , 5D112AA24 , 5D112BC05 , 5D112FA04 , 5D112FB04 , 5D112FB21

引用特許：

審査官引用 (13件)

特開昭62-077459
プラズマからのイオン抽出を採用するPVD装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-271701 出願人：バリアン・アソシエイツ・インコーポレイテッド
特開昭61-284572

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