特許
J-GLOBAL ID:200903037393428801

反応射出成形機用洗浄剤

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大島 正孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-321740
公開番号(公開出願番号):特開平7-173497
出願日: 1993年12月21日
公開日(公表日): 1995年07月11日
要約:
【要約】【目的】 反応射出成形機のイソシアネートを、結晶析出を防止して洗浄するのに適した洗浄剤を提供すること。【構成】 (A).(a)アルコール成分が炭素数4〜10の脂肪族飽和一級モノアルコールである、芳香族ジカルボン酸のジエステル および(b)アルコール成分が炭素数4〜10の脂肪族飽和一級モノアルコールである、炭素数4〜12の脂肪族ジカルボン酸のジエステル、よりなる群から選ばれる少なくとも一種のジカルボン酸ジエステル 99.5〜90重量部、および(B). 実質的に無水の炭素数1〜10の脂肪族飽和一級モノアルコール0.5〜10重量部を含有することを特徴とする反応射出成形機用洗浄剤。
請求項(抜粋):
(A).(a)アルコール成分が炭素数4〜10の脂肪族飽和一級モノアルコールである、芳香族ジカルボン酸のジエステル および(b)アルコール成分が炭素数4〜10の脂肪族飽和一級モノアルコールである、炭素数4〜12の脂肪族ジカルボン酸のジエステル、よりなる群から選ばれる少なくとも一種のジカルボン酸ジエステル 99.5〜90重量部、および(B). 実質的に無水の炭素数1〜10の脂肪族飽和一級モノアルコール0.5〜10重量部を含有することを特徴とする反応射出成形機用洗浄剤。
IPC (2件):
C11D 7/26 ,  B29C 45/00

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