特許

J-GLOBAL ID：200903037397867761

レーザー放射結像装置とともに用いるためのシームレスオフセットリトグラフ印刷部材

発明者： リチャード・エイ・ウィリアムス ,  トーマス・イー・ルイス
出願人/特許権者： プレステク,インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 湯浅 恭三 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-007527
公開番号（公開出願番号）：特開平7-309001
出願日： 1995年01月20日
公開日（公表日）： 1995年11月28日
要約：

【要約】【目的】 機械的な外部把持装置を必要とせず、連続的に印刷可能で、使用後リサイクル可能なリトグラフ印刷部材及びその製造方法並びに該印刷部材を用いた印刷方法を提供する。【構成】 本発明のリトグラフ印刷部材は、版胴(20)、該版胴を覆う第1の高分子層(22)、該第1の高分子層を覆う第2の高分子層(24)を備える。該版胴(20)は印刷液体に対する選択された親和性を有し、該第2の高分子層(24)は該版胴の親和性とは反対の親和性を有し、該第1の高分子層(22)は結像放射線をアブレイション的に吸収することにより特徴づけられる。

請求項（抜粋）：

下記工程を備えるリトグラフ印刷部材製作方法:(a)インク及びインク不粘着流体からなる群より選択された少なくとも1つの印刷液体に対する選択された親和性を有する中空の版胴を準備する工程;(b)該版胴の上に、結像放射線のアブレイション的な吸収により特徴付けられる第1の高分子層を被覆する工程;(c)該第1の高分子層を固体形態とする工程;(d)該第1の高分子層の上に、該中空版胴の親和性とは異なる親和性であって、少なくとも1つの液体に対する親和性を有し、かつ結像放射線のアブレイション的な吸収により特徴付けられない第2の高分子層を被覆する工程;(e)該第2の高分子層を固体形態とする工程。

IPC (5件)：

B41C 1/055 501 ,  B41N 1/22 ,  G03F 7/00 504 ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 511

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭50-158405
  
• 特開平4-126295
  
• 特開平3-013392
  
• 特開平3-197192