電子ビーム描画用アパーチャ及びマスクホルダー並びにそれらを用いた電子ビーム露光マスク

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-176600
公開番号（公開出願番号）：特開2001-007005
出願日： 1999年06月23日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：

【要約】【課題】マスク汚染がなく、電子ビーム描画用アパーチャとマスクホルダーとの位置合せ精度に優れた電子ビーム露光マスクを提供することを目的とする。【解決手段】貼り合わせシリコン基板11を加工して転写マスク開口パターン5a、支持枠1a、転写マスクパターン開口部7、保持枠1b及び支持枠1aと保持枠1bとの間に位置決め用凹部パターン8が形成された電子ビーム描画用アパーチャ10を作製する。一方、マスクホルダー20の保持部材21上に位置決め用凸部パターン21及び導電体層23を形成し、位置決め用凸部パターン21をガイドにして電子ビーム描画用アパーチャ10を貼り合わせ、加圧、加熱して、電子ビーム描画用アパーチャ10の保持枠1bとマスクホルダー20の保持部材21を接着・固定して電子ビーム露光マスク100を得る。

請求項（抜粋）：

電子ビーム描画用アパーチャをマスクホルダーに固定してなる電子ビーム露光マスクにおいて、前記電子ビーム描画用アパーチャ及び前記マスクホルダーに位置決め用パターンを少なくとも一つ以上設け、前記位置決め用パターンをガイドにして前記電子ビーム描画用アパーチャ及び前記マスクホルダーを貼り合わせ、加熱・加圧して固定したことを特徴とする電子ビーム露光マスク。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 1/16

FI (3件)：

H01L 21/30 541 S , G03F 1/16 B , G03F 1/16 E

Fターム (7件)：

2H095BA08 , 2H095BB02 , 2H095BC21 , 2H095BC30 , 5F056AA22 , 5F056EA04 , 5F056FA05

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