特許
J-GLOBAL ID：200903037419948728
汚染物質除去方法および装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 稔 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-263790
公開番号（公開出願番号）：特開平8-192138
出願日： 1995年10月12日
公開日（公表日）： 1996年07月30日
要約：
【要約】【課題】 飽和帯と通気帯の双方から土壌汚染物質を除去する。【解決手段】 本方法は、汚染区域に地下水面より下の深さまで井戸孔を堀り、その井戸孔に地下水面より下の深さまで第1孔付き垂直導管を設置し、その第1孔付き垂直導管の中に第2孔付き垂直導管を設置し、その第2垂直導管の中に底開口が第2垂直導管内に位置するように第1真空抽出管を設置し、第1垂直導管の内側にかつ第2垂直導管の外側に第2真空抽出管を設置し、第2垂直導管に気体を導入すると同時に、第1および第2真空抽出管に真空を加えて土壌から気体と液体を第1および第2真空抽出管に吸い込み、気体と液体の両方を二相流として地表面へ搬送し、その二相共通流を少なくとも1つの主として液体流と、少なくとも1つの主として気体流に分離し、分離した液体流と気体流を別々に処理する。
請求項（抜粋）：
通気帯と地下水面をもつ地下の汚染区域から汚染物質を除去する方法であって、汚染区域に地下水面より下の深さまで井戸穴を堀り、井戸穴の中に地下水面より下の深さまで第1有孔垂直導管を設置し、第1有孔垂直導管の中に第2有孔垂直導管を設置し、第2有孔垂直導管の中に第1真空抽出管の底開口が第2有孔垂直導管の中に位置するように第1真空抽出管を設置し、第1有孔垂直導管の内側にかつ第2有孔垂直導管の外側に第2真空抽出管を設置し、第2有孔垂直導管に気体を導入すると同時に、第1真空抽出管と第2真空抽出管に真空を加えて、土壌から気体と液体を第1真空抽出管と第2真空抽出管内に吸い込み、気体と液体の双方を二層共通流として第1真空抽出管と第2真空抽出管を通して地表面へ搬送し、二層共通流を少なくとも1つの主として液体流と、少なくとも1つの主として気体流に分離し、分離した液体流と気体流を別々に処理すること、から成ることを特徴とする方法。
IPC (3件)：
B09C 1/04
, E21B 43/00
, E21B 43/34
