特許
J-GLOBAL ID：200903037428888258
荷電粒子線用部分一括マスクの構造
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
加藤 朝道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-123041
公開番号（公開出願番号）：特開平10-301260
出願日： 1997年04月25日
公開日（公表日）： 1998年11月13日
要約：
【要約】【課題】複数の所望パターンを一括して転写する荷電粒子ビーム露光において、マスクの開口の加工精度不足による描画精度の劣化を防ぎ、精度良く描画を行う荷電粒子線用部分一括マスクの構造の提供。【解決手段】複数の所望パターンを一括して転写する荷電粒子ビーム露光に使用するマスクに、再加工用の補助パターンを配置し、マスク開口が設計値に満たない場合、この補助パターンを加工することにより、接続部の欠陥を回避することができる。
請求項（抜粋）：
電子銃から放出された電子ビーム、もしくは、イオン源から放出されたイオンビームを、所望の形状に成形するための、荷電粒子ビーム描画装置用一括マスクにおいて、所望のパターン開口と共に、補助パターン開口を有する、ことを特徴とする荷電粒子線用部分一括マスクの構造。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/16 B
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 541 R
