プラズマ反応装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-309141
公開番号（公開出願番号）：特開平10-150025
出願日： 1996年11月20日
公開日（公表日）： 1998年06月02日
要約：

【要約】【課題】ドライエッチングにおいてチャージアップ形状異常を低減し、また選択性、均一性、加工性などのエッチング性能を向上させるための、エッチングパラメータを拡張しうるプラズマ反応装置を提供する。【解決手段】 RF電力は周期的に変化をし、その一周期は互いに周波数が異なる第1及び第2のサブ周期25,26によって構成されている。第1のサブ周期25におけるRF電力の周波数は第2のサブ周期におけるそれよりも高い。高い周波数のRF電力を印加する第1のサブ周期25において生じた電荷の蓄積を、低い周波数のRF電力を印加する第2のサブ周期26で緩和することができる。これと共に、低い周波数のRF電力のみを印加する場合に問題となるエッチングレートの低下も、第1のサブ周期25において高い周波数のRF電力を印加することで緩和できる。

請求項（抜粋）：

FM変調されたRF電力が印加されるステージと、前記ステージ上に載置された試料に晒されるプラズマが存在する反応室とを備えるプラズマ反応装置。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 , C23F 4/00 , H05H 1/46

FI (3件)：

H01L 21/302 B , C23F 4/00 A , H05H 1/46 C

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