特許
J-GLOBAL ID:200903037459628939

給電アンテナ及び半導体製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 光石 俊郎 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-208889
公開番号(公開出願番号):特開2003-022977
出願日: 2001年07月10日
公開日(公表日): 2003年01月24日
要約:
【要約】【課題】 半導体製造装置等でウエハ上に所定の成膜等を行う場合において、均質な成膜の生成に資することができる給電アンテナを提供する。【解決手段】 真空容器に注入されたガスをプラズマ化するための電磁エネルギーを供給するための給電アンテナIであって、同心状に配設した各コイル1a,1b,1cを、その接地側の端子から高圧側の端子に向かってプラズマとの距離が漸増するように構成することにより各コイル1a,1b,1cからプラズマへの浮遊容量に流れる漏れ電流の分布が各コイル1a,1b,1cの周方向に関して均一になるようにしたものである。
請求項(抜粋):
真空容器に注入されたガスをプラズマ化するための電磁エネルギーを供給するための給電アンテナにおいて、単一のコイルからプラズマへの浮遊容量に流れる漏れ電流の分布が、このコイルの周方向に関して均一になるように構成したことを特徴とする給電アンテナ。
IPC (7件):
H01L 21/205 ,  B01J 19/08 ,  C23C 16/505 ,  H01L 21/31 ,  H01Q 7/04 ,  H01Q 21/20 ,  H05H 1/46
FI (7件):
H01L 21/205 ,  B01J 19/08 H ,  C23C 16/505 ,  H01L 21/31 C ,  H01Q 7/04 ,  H01Q 21/20 ,  H05H 1/46 B
Fターム (33件):
4G075AA24 ,  4G075BC04 ,  4G075CA25 ,  4G075CA47 ,  4G075CA63 ,  4G075DA02 ,  4G075EC01 ,  4G075EC30 ,  4G075FB02 ,  4K030KA30 ,  5F045AA08 ,  5F045AB02 ,  5F045AC01 ,  5F045AC02 ,  5F045AC11 ,  5F045AC16 ,  5F045AC17 ,  5F045BB02 ,  5F045DP03 ,  5F045DQ10 ,  5F045EF02 ,  5F045EH02 ,  5F045EH04 ,  5F045EH11 ,  5F045EM10 ,  5J021AA01 ,  5J021AA02 ,  5J021AA03 ,  5J021AA08 ,  5J021CA06 ,  5J021FA32 ,  5J021GA08 ,  5J021JA10

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