特許
J-GLOBAL ID:200903037466352205

超純水製造システムの運転方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-250809
公開番号(公開出願番号):特開平9-085241
出願日: 1995年09月28日
公開日(公表日): 1997年03月31日
要約:
【要約】【課題】 長期にわたり、シリカ濃度の低い超純水を安定して供給できる超純水製造システムの運転方法を提供する。【解決手段】 超純水製造システム中に導入された、平均孔径が0.01〜1μmで膜1gあたり0.2〜10ミリ当量のアニオン交換基を有する多孔膜を内蔵したアニオン吸着膜モジュ-ルに、40°C〜95°Cの熱水を定期的に通水する。
請求項(抜粋):
超純水製造システム中に導入された、平均孔径が0.01〜1μmで膜1gあたり0.2〜10ミリ当量のアニオン交換基を有する多孔膜を内蔵したアニオン吸着膜モジュ-ルに、40°C〜95°Cの熱水を定期的に通水することを特徴とする超純水製造システムの運転方法。
IPC (4件):
C02F 1/44 ,  B01D 71/82 500 ,  B01J 47/12 ,  C02F 1/42
FI (4件):
C02F 1/44 J ,  B01D 71/82 500 ,  B01J 47/12 D ,  C02F 1/42 A

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