特許
J-GLOBAL ID:200903037489746278
耐プラズマエロージョン性に優れる溶射皮膜被覆部材およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
小川 順三
, 中村 盛夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-345917
公開番号(公開出願番号):特開2007-131951
出願日: 2006年12月22日
公開日(公表日): 2007年05月31日
要約:
【課題】ハロゲン化合物を含む環境などの腐食作用による損傷が少なく、かつ、その腐食生成物が環境汚染原因となって、半導体加工装置の品質低下、生産コストの増大を招くことのない各種半導体装置用溶射皮膜被覆部材を得る。【解決手段】基材の表面に形成したAl2O3、Y2O3またはAl2O3-Y2O3複酸化物などからなる溶射皮膜の表面を、電子ビーム照射処理によって、パーティクル等の付着、堆積特性に優れ、その再飛散を有効に防止できる耐プラズマエロージョン性に優れた部材とその製造方法。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基材と、その基材表面を覆うセラミック溶射皮膜とからなり、その溶射皮膜は、該皮膜表面の高さ方向の粗さ曲線の中心線より上部に位置する針状凸部のみを電子ビーム照射に伴う溶融-凝固によって台形状凸部にすると共に、高さ方向の粗さ曲線のスキューネス値(Rsk)が正の値を示す表面形状とした構造からなる電子ビーム照射層であることを特徴とする耐プラズマエロージョン性に優れる溶射皮膜被覆部材。
IPC (5件):
C23C 4/18
, C04B 41/87
, C04B 41/90
, C23C 14/00
, C23C 4/10
FI (6件):
C23C4/18
, C04B41/87 J
, C04B41/90 B
, C04B41/87 K
, C23C14/00 B
, C23C4/10
Fターム (27件):
4K029CA01
, 4K029CA03
, 4K029CA05
, 4K029DA10
, 4K031AA08
, 4K031AB03
, 4K031CB08
, 4K031CB09
, 4K031CB21
, 4K031CB22
, 4K031CB31
, 4K031CB36
, 4K031CB37
, 4K031CB39
, 4K031CB43
, 4K031CB49
, 4K031DA01
, 4K031DA04
, 5F004AA15
, 5F004BB29
, 5F004BD04
, 5F004BD05
, 5F004BD06
, 5F045AA08
, 5F045BB15
, 5F045EB03
, 5F045EB06
引用特許:
出願人引用 (16件)
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審査官引用 (10件)
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引用文献:
審査官引用 (1件)
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JIS使い方シリーズ 溶射技術マニュアル, 19981030, 第1版 第1刷, p.33
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