特許
J-GLOBAL ID：200903037491377301
成膜処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-296447
公開番号（公開出願番号）：特開平5-109654
出願日： 1991年10月16日
公開日（公表日）： 1993年04月30日
要約：
【要約】【目的】 ガス流通部を所定の温度以下に冷却することにより、この部分に反応生成物が付着することを阻止する。【構成】 被処理体4を保持する被処理体保持手段6と反応性ガスを供給するガス供給ノズル12とを有する金属膜の成膜処理装置において、ガス流制御部26の整流筒体30に冷却手段36を設け、これにエチレングリコール等の比較的強力な冷媒を流すことによりこの部分を例えば-5°C以下に冷却する。この冷却操作により整流筒体30は、反応ガスの反応温度以下に冷却され、反応生成物の付着が抑制される。
請求項（抜粋）：
真空容器内において被処理体を所定の温度に加熱した状態で保持する被処理体保持手段と、前記真空容器内に反応性ガスを供給するガス供給ノズルとを有し、前記被処理体の表面に金属膜を形成する成膜処理装置において、前記被処理体保持手段と前記ガス供給ノズルとの間に前記反応性ガスの流れを制御するガス流制御部を設け、前記ガス流制御部にこのガス流制御部を前記反応性ガスの反応温度以下に冷却するための冷却手段を設けるように構成したことを特徴とする成膜処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/285
, C23C 16/44
, H01L 21/205
, H01L 21/31
