特許

J-GLOBAL ID：200903037498910447

洗浄装置のノズル構造

発明者： 植木 幸次
出願人/特許権者： 沖電気工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 敏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-354741
公開番号（公開出願番号）：特開2000-183013
出願日： 1998年12月14日
公開日（公表日）： 2000年06月30日
要約：

【要約】【課題】 ウエハ洗浄装置においては薬液の調合後や温調後に洗浄物のウエハまでの距離があり、時間がかかるため温度が不安定、調合した薬液の特性が変化してしまう。【解決手段】 ウエハ1を吸着するチャック2が配置され、その上にノズル本体3が設けられる。ノズル本体3は薬液(A)4のノズル口5、薬液(B)6のノズル口7、純水8のノズル口9に分かれる。各ノズル口は各々薬液(A)4、薬液(B)6、純水8の入った容器に配管を介して接続され、ウエハの洗浄処理を行う。

請求項（抜粋）：

ウエハを吸着するチャックが配置され、その上部に設けられたノズル本体には、1つのノズルの中に複数のノズル口を具備して成り、前記ノズルの中で薬液調合することを特徴とする洗浄装置のノズル構造。

IPC (5件)：

H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 651 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/08

FI (5件)：

H01L 21/304 643 C ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 651 A ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/08

Fターム (11件)：

3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201AB47 ,  3B201BB33 ,  3B201BB38 ,  3B201BB72 ,  3B201BB82 ,  3B201BB93 ,  3B201CB12 ,  3B201CC01 ,  3B201CC13

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平3-021369
  
• ウェーハ処理装置およびウェーハ処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-239209   出願人：東芝マイクロエレクトロニクス株式会社, 株式会社東芝