特許
J-GLOBAL ID：200903037499491073
フォトマスク用ペリクル枠
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-062825
公開番号（公開出願番号）：特開平7-271017
出願日： 1994年03月31日
公開日（公表日）： 1995年10月20日
要約：
【要約】【目的】 重ね合わせ精度が劣化せず、取り外しが簡単なペリクルを得る。【構成】 フォトマスクと、このフォトマスクの外ふちより内側に設けられたペリクル枠において、上記ペリクル枠は、中空の直方体と、上記直方体の一対の向かい合う辺において外側に延在する取付部からなり、上記直方体の一方にはペリクル膜が取り付けられ、もう一方には、上記取付部の四隅に上記直方体の上記辺に対して平行に備わる固定用枠によって、上記フォトマスクが取り付けられているフォトマスク用ペリクル枠。
請求項（抜粋）：
フォトマスクと、このフォトマスクの外ふちより内側に設けられたペリクル枠において、上記ペリクル枠は、中空の直方体と、上記直方体の一対の向かい合う辺において外側に延在する取付部からなり、上記直方体の一方にはペリクル膜が取り付けられ、もう一方には、上記取付部の四隅に上記直方体の上記辺に対して平行に備わる固定用枠によって、上記フォトマスクが取り付けられていることを特徴とするフォトマスク用ペリクル枠。
IPC (2件)：
引用特許：
審査官引用 (2件)
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特開昭62-255950
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特開昭62-255950
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