特許
J-GLOBAL ID：200903037507231620
濃度制御方法及びこれを利用した基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-070785
公開番号（公開出願番号）：特開平8-078380
出願日： 1995年03月02日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：
【要約】【目的】 高精度で、かつ、応答性の良い濃度制御方法及びこれを利用した基板処理装置を提供する。【構成】 純水の温度を変えて、各温度での透過光強度を測定して検量線データ格納部34に格納する。所定濃度に調製した基準処理液を処理液供給配管9に供給し、所定温度に調整する。この状態で基準透過光強度を測定するとともに基準処理液の温度を測定し、参照セル23の参照透過光強度を測定する。前記測定した基準処理液の温度と検量線データとから、予測透過光強度を求める。前記参照透過光強度と予測透過光強度との比から補正係数を求める。そして、補正係数と基準透過光強度と参照透過光強度とから、基準処理液の基準透過率を算出する。次に基板を処理するための処理液についても同様の補正係数を求めて、これと参照透過光強度と試料透過光強度とから試料透過率を求める。前記基準透過率と前記試料透過率との差分に応じてフィードバック制御部37が供給量制御部38に制御信号を出力する。
請求項（抜粋）：
処理液が流通する試料フローセルと、一定温度に保持した状態で溶媒を流通または充填した参照セルとの透過光強度の比をもって透過率を算出し、この透過率に基づいて前記処理液の濃度を制御する濃度制御方法であって、(a)前記処理液に含まれている溶媒のみを前記試料フローセルに流通させた状態で温度を変えて、各温度での透過光強度を測定して検量線データを記憶する過程と、(b)予め所定濃度および所定温度に調製した基準処理液を前記試料フローセルに流通させ、この状態で透過光強度(基準透過光強度)を測定する過程と、(c)参照セルの溶媒の透過光強度(参照透過光強度)を測定する過程と、(d)前記基準処理液の温度と前記検量線データとから、前記参照セルの溶媒を前記基準処理液と同じ温度とした場合の参照透過光強度に相当する予測透過光強度を求め、前記参照透過光強度と予測透過光強度との比から補正係数を求める過程と、(e)前記基準透過光強度と前記参照透過光強度および前記補正係数とから前記基準処理液の透過率(基準透過率)を求める過程と、からなる基準設定過程を予め行った後、(f)前記基準処理液と同じ温度に調整され、かつ、前記基準処理液と同じ濃度を目標値とする処理液を前記試料フローセルに流通させ、この状態で透過光強度(試料透過光強度)を測定する過程と、(g)前記試料透過光強度と前記参照透過光強度および前記補正係数とから前記処理液の試料透過率を求める過程と、(h)前記基準透過率と前記試料透過率との差分に応じて、薬液、薬液に相当するガス、溶媒のうちいずれかの一つを前記処理液に補充する過程と、からなるフィードバック制御過程を前記基準透過率と前記試料透過率とが一致するように繰り返し行うことを特徴とする濃度制御方法。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341
, G01N 21/59
, H01L 21/306
