特許

J-GLOBAL ID：200903037509853572

リトグラフベースおよびそれを用いてリトグラフ印刷板を製造する方法

発明者： グイド・ハウクイア ,  ビレム・コルテンス ,  パウル・コツペンス ,  ヨアン・フエルメールシユ ,  エリク・モステルト ,  エリク・フエルシユレン
出願人/特許権者： アグフア-ゲヴエルト・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ
代理人 (1件)： 小田島 平吉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-085267
公開番号（公開出願番号）：特開平6-316181
出願日： 1994年04月01日
公開日（公表日）： 1994年11月15日
要約：

【要約】【目的】 支持体との接着性が改良された親水性層を支持体上に有するリトグラフベースを提供する。【構成】 親水性(共)重合体または(共)重合体混合物を含有しており且つ加水分解されたオルト珪酸テトラアルキル架橋結合剤で硬化されている親水性層と連続している下塗り層を疎水性担体上に含んでなるリトグラフベースであって、該下塗り層が親水性結合剤およびシリカを含有しておりそして200mg/m2より多いが750mg/m2より少ない固形分含有量で適用することを特徴とするリトグラフベース。

請求項（抜粋）：

親水性(共)重合体または(共)重合体混合物を含有しており且つ加水分解されたオルト珪酸テトラアルキル架橋結合剤で硬化されている親水性層と連続している下塗り層を疎水性担体上に含んでなるリトグラフベースであって、該下塗り層が親水性結合剤およびシリカを含有しておりそして750mg/m2より少ない固形分含有量で適用することを特徴とするリトグラフベース。

IPC (3件)：

B41N 3/00 ,  B41C 1/14 ,  G03F 7/07