特許
J-GLOBAL ID：200903037511458010
ポジ型レジスト組成物の調製法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-046454
公開番号（公開出願番号）：特開平6-258826
出願日： 1993年03月08日
公開日（公表日）： 1994年09月16日
要約：
【要約】【目的】 非溶解粒子が少なく、又、レジスト組成物の調製時及び保存時に固形分の結晶が析出しないポジ型レジスト組成物の調製法を提供する。【構成】 アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び溶剤を含むポジ型レジスト組成物の調製法であって、アルカリ可溶性樹脂及びキノンジアジド化合物の合計量が該合計量及び溶剤の総量100重量部に対して25重量部以上になるように溶液を調製すること、並びに、得られた溶液をさらに5重量部以上の溶剤で希釈することを特徴とするポジ型レジスト組成物の調製法。
請求項（抜粋）：
アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び溶剤を含むポジ型レジスト組成物の調製法であって、アルカリ可溶性樹脂及びキノンジアジド化合物の合計量が該合計量及び溶剤の総量100重量部に対して25重量部以上になるように溶液を調製すること、並びに、得られた溶液をさらに5重量部以上の溶剤で希釈することを特徴とするポジ型レジスト組成物の調製法。
IPC (2件)：
引用特許：
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