特許
J-GLOBAL ID：200903037519549855
ウエハ洗浄装置及びウエハ洗浄方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小杉 佳男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-190190
公開番号（公開出願番号）：特開平7-045576
出願日： 1993年07月30日
公開日（公表日）： 1995年02月14日
要約：
【要約】【目的】ウエハ表面の汚れを十分に除去できるウエハ洗浄装置及びウエハ洗浄方法を提供する。【構成】ウエハ洗浄装置30は、洗浄液が貯えられる洗浄槽40と、ウエハを保持した状態でこのウエハを回転させるウエハ回転機60を備えて構成されている。洗浄槽40には洗浄液を供給する洗浄液供給管42が設けられており、この洗浄液供給管42からはウエハの回転に対抗する方向に洗浄液が噴出される。
請求項（抜粋）：
ウエハを洗浄するための洗浄液が貯えられる洗浄槽と、該洗浄槽の中にウエハを保持した状態で該ウエハを回転させるウエハ回転機とを備えたことを特徴とするウエハ洗浄装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
