特許

J-GLOBAL ID：200903037522526785

フォトレジスト用ストリッパ-組成物

発明者： 金 眞 錫 ,  吉 俊 仍 ,  朴 東 鎭 ,  朴 相 五 ,  李 春 得 ,  林 碩 榮 ,  金 楊 善
出願人/特許権者： 三星電子株式会社
代理人 (1件)： 小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-197523
公開番号（公開出願番号）：特開2000-039727
出願日： 1999年07月12日
公開日（公表日）： 2000年02月08日
要約：

【要約】【課題】 浸漬方式を用いる設備だけではなく、エアナイフ工程を利用する枚葉式設備に適合したフォトレジスト用のストリッパー組成物を提供する。また、このようにエアナイフ工程が行われる枚葉式設備を用いてフォトレジストを剥離させる場合においても、基板上に不純物粒子が残らないようにするフォトレジスト用のストリッパー組成物を提供する。そして、多様な液晶表示装置の全膜質に対しても同一の剥離性能を表すことができ、ベアガラスの洗浄時においても不純物粒子を生成しないフォトレジスト用のストリッパー組成物を提供する。【解決手段】 5〜15重量%のアルカノールアミンと、35〜55重量%のスルホキシドまたはスルホン化合物と、35〜55重量%のグリコールエーテルとを含むフォトレジスト用ストリッパー組成物。

請求項（抜粋）：

5〜15重量%のアルカノールアミンと、35〜55重量%のスルホキシド又はスルホン化合物と、35〜55重量%のグリコールエーテルと、を含むフォトレジスト用ストリッパー組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/30 572 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭64-042653
  
• 特開昭62-049355