特許

J-GLOBAL ID：200903037525537796

水素ガス精製装置

発明者： 大塚 健二 ,  山下 義雄
出願人/特許権者： 日本パイオニクス株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-036357
公開番号（公開出願番号）：特開平7-223802
出願日： 1994年02月10日
公開日（公表日）： 1995年08月22日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 加熱下でパラジウム合金膜の水素選択透過性を利用した水素ガス精製装置において、不純物、特に従来除去しきれなかった水分、メタンを含めて各不純物濃度がppbオーダー以下のような低レベルまで除去しうる精製装置を製作する。【構成】 水素ガス精製中において高温の精製水素ガスと接触する部分を構成する部品を、450〜800°Cなどの高温の水素ガス雰囲気下で加熱処理する。

請求項（抜粋）：

加熱下でのパラジウム合金膜の水素選択透過性を利用した水素ガスの精製装置において、パラジウム合金膜を透過した2次側であって、高温の精製水素ガスと接触する部分を構成する部品を高温の水素ガス雰囲気下で加熱処理したことを特徴とする水素ガス精製装置。

IPC (3件)：

C01B 3/56 ,  B01D 53/22 ,  B01D 71/02 500

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平1-145303
  
• 特開平1-145303
  
• 特開平1-145303