特許

J-GLOBAL ID：200903037529211305

寸法比の大きい微小パターン構造体の製造方法

発明者： トーマス、ヴユンシユ ,  ペーター、ヘセル ,  ゲールハルト、ホフマン ,  ユルゲン、ランゲン
出願人/特許権者： ビーエーエスエフ アクチエンゲゼルシヤフト
代理人 (1件)： 田代 烝治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-036310
公開番号（公開出願番号）：特開平5-148369
出願日： 1992年02月24日
公開日（公表日）： 1993年06月15日
要約：

【要約】【目的】 高い感放射線性を示し、X線の作用下に解重合され、これにより特殊な現像剤で選択的に溶解洗除されることができ、さらに簡単に、例えば射出成形、プレス成形、押出成形、注下成形により微小パターン構造体材料の作製が可能であり、膨潤、亀裂、欠損をもたらさない重合体を見出すこと。【構成】 重合体をX線源からの高エネルギー平行放射線に対して画像形成露出することにより寸法比の大きい微小パターン構造体を製造する方法であって、重合体としてオキシメチレン単独重合体もしくはオキシメチレン共重合体を使用することを特徴とする方法。

請求項（抜粋）：

重合体をX線源からの高エネルギー平行放射線に対して画像形成露出することにより寸法比の大きい微小パターン構造体を製造する方法であって、重合体としてオキシメチレン単独重合体もしくはオキシメチレン共重合体を使用することを特徴とする方法。

IPC (3件)：

C08J 3/28 CFC ,  C08G 2/08 ,  C08L 59:00