特許

J-GLOBAL ID：200903037533290490

回転式基板処理装置

発明者： 矢部 学
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-162976
公開番号（公開出願番号）：特開平8-323274
出願日： 1995年06月05日
公開日（公表日）： 1996年12月10日
要約：

【要約】【目的】 搬入・搬出時や基板回転当初における基板と規制部材との接触を防止、軽減し得る回転式基板処理装置を提供する。【構成】 電動モータによって所定の回転軸周りに回転される回転台3には、基板Wの裏面に点接触してこれを支持する複数個のピン状支持部材11と、回転中の基板Wの水平方向の位置を規制するための複数個のピン状の規制部材12とが設けられている。各規制部材12はそれぞれ、横断面が略円形で、搬入された基板Wの外周端縁と所定の隙間(遊び)が形成されるように配置され、また、ベアリング13によって規制部材中心軸PJ周りに回転可能に構成されている。

請求項（抜粋）：

基板を、所定の回転中心周りで回転させながらその基板に所定の処理を施す回転式基板処理装置であって、回転台と、前記回転台を所定の回転軸周りで回転させる回転駆動手段と、前記回転台に設けられ、搬入された基板の裏面を支持する支持部材と、前記回転台上に設けられ、前記支持部材に支持され回転される前記基板の外周端縁の、複数個所に点接触して前記基板の水平方向の位置を規制する複数個の規制部材と、を備えた回転式基板処理装置において、前記各規制部材はそれぞれ、横断面が略円形で、中心軸周りに回動自在に構成されたことを特徴とする回転式基板処理装置。

IPC (5件)：

B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 351

FI (6件)：

B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/304 341 M ,  H01L 21/304 351 S ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 569 C