特許
J-GLOBAL ID:200903037533944708

香料組成物、及びそれを含有する化粧料並びに芳香剤

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 遠山 勉 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-254460
公開番号(公開出願番号):特開平7-109481
出願日: 1993年10月12日
公開日(公表日): 1995年04月25日
要約:
【要約】【目的】 悪臭,体臭,煙草臭等を効率的に且つ長期にわたってマスクできる香料組成物、それを含有する化粧料及び芳香剤を提供する。【構成】 香料組成物はアセチルオクタヒドロテトラメチルナフタレン、ガンマメチルイオノン、ヘキサハイドロヘキサメチルシクロペンタベンゾピラン、メチル(トリメチルシクロペンテニル)ペンタノール、イソカンフィルシクロヘキサナールから選ばれる2種以上を特定量含み、化粧料、芳香剤はこの組成物を特定量含む。
請求項(抜粋):
下記化1で表されるアセチルオクタヒドロテトラメチルナフタレン、化2で表されるガンマメチルイオノン、化3で表されるヘキサハイドロヘキサメチルシクロペンタベンゾピラン、化4で表されるメチル(トリメチルシクロペンテニル)ペンタノール、及び化5で表されるイソカンフィルシクロヘキサナールから選ばれる2種以上を10〜50重量%含む香料組成物。【化1】【化2】【化3】【化4】【化5】
IPC (4件):
C11B 9/00 ,  A61K 7/46 315 ,  A61K 7/46 355 ,  A61K 7/46 411
引用特許:
審査官引用 (8件)
  • 香料組成物
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-166734   出願人:高砂香料工業株式会社, 株式会社資生堂
  • 特開昭52-133947
  • 特開平3-181599
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